高阻膜研发
需求领域：信息技术，装备制造 所在地：安徽省/蚌埠市 研发经费：面议
发布时间：2019-04-30 期望解决时间：2019-10-18
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需求描述
技术困难：
1. 方阻均匀性达不到客户要求；
2. 稳定性差：放置后方阻飘高最大约50倍；
预期技术指标：
1. 方阻均匀性达到50%以下；
2. 方阻范围5E+07~1E+09Ω/□，放置后方阻变化在5倍以内；
3. 380~780nm波长透过率：＞98.5%；
4. 硬度：9H
5. 耐酸碱等指标
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