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高阻膜研发

需求领域:信息技术,装备制造 所在地:安徽省/蚌埠市 研发经费:面议

发布时间:2019-04-30 期望解决时间:2019-10-18

联系方式:****** 企业规模:****** 主营业务:******

需求描述

技术困难:
1. 方阻均匀性达不到客户要求;
2. 稳定性差:放置后方阻飘高最大约50倍;
预期技术指标:
1. 方阻均匀性达到50%以下;
2. 方阻范围5E+07~1E+09Ω/□,放置后方阻变化在5倍以内;
3. 380~780nm波长透过率:>98.5%;
4. 硬度:9H
5. 耐酸碱等指标

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