除硅抛光树脂是一种制造超纯水的产品，常用于超纯水处理系统的末端，其出水水质非常高，一般产水的水质可达18兆欧以上，主要用于高端电子半导体行业超纯水制备，如生产磁盘驱动器、显示设备、独立和半导体设备、低密集成电路、核电厂等需要使用超纯水的行业。进口除硅抛光树脂具有高耐磨性，可以确保让树脂颗粒基本没有裂纹，使用的寿命较长，且TOC析出率低，离子泄露率低、出水电阻率高，现阶段国产的除硅抛光树脂与进口的除硅抛光树脂相比还有较大的差距。从核心市场看，中国除硅抛光树脂市场占据全球约30%的市场份额，是全球最主要的消费市场之一，且增速高于全球，随着中国电子半导体行业的飞速发展，国内抛光树脂的需求快速增长，目前中国90%以上的抛光树脂都采用国外产品，但是国外除硅抛光树脂不断供货周期长、供货时间不稳定，而且价格居高不下，严重的影响国内电子半导体工业产品的生产研发的发展，因此，为打破国外发达国家的技术壁垒，国内除硅抛光树脂的开发迫在眉睫，既具有经济效益同时也具有社会效益。

突破除硅抛光树脂交换容量不高，TOC析出过高，离子泄露率高、出水电阻率低等关键技术难题，生产出满足半导体行业终端超纯水制备的除硅抛光树脂，最终实现终端除硅抛光树脂国产化替代。主要公关目标如下：（1）研发一种高强度、高交换容量、高交换速度的强酸阳树脂和强碱阴树脂。因除硅抛光树脂主要应用于高端电子半导体行业超纯水制备，这就要求除硅抛光树脂的再生转型率非常高、树脂机械强度好、耐压耐渗透性能好、树脂颗粒基本没有裂纹，而研发一种高强度、高交换容量、高交换速度的强酸阳树脂和强碱阴树脂成为除硅抛光树脂的前提基础。（2）研发一种除硅抛光树脂的纯化方法。公司通过研发一种特殊的除硅抛光树脂的纯化方法，最终使得纯化后的除硅抛光树脂出水电阻率大于18.2MΩ•cm、TOC小于3ppb、超纯水中总硅含量小于1ppb，出水总金属离子浓度小于0.1ppt，以满足半导体行业终端超纯水制备的需要。（3）开发一套除硅抛光树脂生产装置。公司计划将除硅抛光树脂的生产技术、专用设备设计技术及除硅抛光树脂应用技术集合成一体进行集成创新，通过资源整合研发出一套除硅抛光树脂成套设备，以满足半导体行业终端超纯水制备的需要。